小型真空退火爐可用于將材料高溫加熱在真空環(huán)境中處理的裝置。主要原理是在穩(wěn)定的低壓環(huán)境下,對于有特殊工藝要求的材料進(jìn)行高溫加熱或其他環(huán)境改變的處理。該裝置的使用方法需要在熟悉原理的基礎(chǔ)上進(jìn)行實(shí)踐,掌握正確的操作技能和相關(guān)知識,才能進(jìn)行安全、有效的實(shí)驗(yàn)。基于材料制備、改性和再生等方面需要進(jìn)行高溫處理,而這些處理過程在普通大氣下無法進(jìn)行,眾多材料亦不耐受高溫氧化反應(yīng)。該設(shè)備由箱體內(nèi)部加熱爐、隔熱層以及真空系統(tǒng)組成。整個(gè)操作過程中應(yīng)確保箱體始終處于真空狀態(tài)。加熱件通常為電阻絲或石墨材質(zhì),在箱體內(nèi)建立高溫局部區(qū)域。材料通過放置于加熱器內(nèi)進(jìn)行加熱處理。真空部分除了灌入惰性氣體外,更主要作為只有少數(shù)氣體分子的VACUUM處理空間,幾乎沒有聽到壓力計(jì)的壓力。
具體來說,小型真空退火爐工作時(shí)的操作流程如下:
1.檢查所有部件的連接是否牢固,保持箱體的真空密封狀態(tài)。
2.將待處理材料放入加熱區(qū),并按照所需程序設(shè)置相關(guān)的參數(shù),如加熱速度、時(shí)間、目標(biāo)溫度等。
3.啟動(dòng)真空泵,讓系統(tǒng)內(nèi)部達(dá)到所需的真空度,在拉力過程中打開鼓風(fēng)門,以積極促進(jìn)氣體流通速度并促進(jìn)獲得更快排放。
4.達(dá)到設(shè)定條件后關(guān)閉加熱器,放置下來進(jìn)行冷卻,并在維持良好的真空狀態(tài)下逐漸降溫。
5.拿出處理完畢的樣品即可。
6.需要注意的是,操作過程中要嚴(yán)格控制各種參數(shù),不僅需要確保加熱時(shí)間和溫度等參數(shù)的準(zhǔn)確性,另外還應(yīng)當(dāng)注意箱體內(nèi)部真空環(huán)境的穩(wěn)定性、密封狀態(tài)及安全問題。